蒸發(fā)鍍膜是將材料加熱至其蒸發(fā)溫度，使材料從固態(tài)直接轉變?yōu)檎羝?，然后沉積到基底表面形成薄膜。蒸發(fā)鍍膜能夠制備高純度和致密的薄膜，并且可以沉積復雜化合物和多組分材料。

真空蒸發(fā)鍍膜技術是一種常用的表面處理方法，廣泛應用于航空航天、電子設備、汽車、塑料及玻璃制品等領域。

磁控鍍膜則是通過將材料置于磁場中，利用離子束轟擊材料表面，使其離子化并沉積到基底表面形成薄膜。

(1) 基板低溫性熱蒸發(fā)來說，磁控濺射加熱少。

(2) 有很高的沉積率可濺射鎢、鋁薄膜和反應濺射TiO2、ZrO2薄膜。

(3) 環(huán)保工藝。磁控濺射鍍膜法生產效率高，沒有環(huán)境污染。

(4) 涂層很好的牢固性，濺射薄膜與基板，機械強度得到了改善，更好的附著力。

(5) 操作容易控制。鍍膜過程，只要保持壓強、電功率濺射條件穩(wěn)定，就能獲得比較穩(wěn)定的沉積速率。

(6) 成膜均勻 濺射的薄膜密度和均勻性有顯著優(yōu)勢。

(7) 磁控濺射的金屬膜通常能獲得良好的光學性能、電學性能及某些特殊性能。

陶瓷金屬化是一種將金屬涂層覆蓋在陶瓷表面的工藝，可以提高陶瓷的機械性能、耐腐蝕性和導電性。它廣泛應用于電子、航空、軍工等領域。一、原理陶瓷金屬化的原理主要是利用化學反應或物理氣相沉積等方法，在 陶瓷表面形成均勻的金屬涂層。二、工藝流程主要包括以下幾個步驟：清洗 金屬化涂層 熱處理